納米鈰基復合拋光液 產品特征： SHNF系列納米鈰基復合拋光液是在納米氧化鈰的基礎上復合納米硅、鋁、鋯等材料，既能夠保證達到或超過二氧化硅所達到的細的表面光潔度，也保證能夠達到氧化鈰拋光劑達到的拋光速度，形成一種獨特的拋光效果，拋光液質量穩定，粒度可控，顆粒度分布集中，并具有以下特點： 1、 軟硬度適中、不劃傷被拋物面。 2、 懸浮性好，不易沉淀，使用方便。 3、 分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。 適用領域： 1、適用于DSTI-CMP、集成電路光掩模、高精密光學儀器、光學鏡頭、液晶顯示屏、多芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。 2、半導體材料、玻璃材料的拋光，尤其是需要拋光到極細的表面光潔度要求的， 技術指標： 型號 粒度(D：50，μm) 濃度（wt％） PH 適 用 SHNF-08 0.05-0.09 20-40 7-9 DSTI-CMP SHNF-2 0.1-0.2 20-40 7-9 DSTI-CMP SHNF-4 0.3-0.4 20-40 7-9 高精密光學儀器等 SHNF-6 0.5-0.6 20-40 7-9 高精密光學儀器等 SHNF-8 0.7-0.8 20-40 7-9 高精密光學儀器等 SHNF-10 0.9-1.0 20-40 7-9 高精密光學儀器等 備注：以上也可根據用戶需要不同濃度和不同粒度而調整。 注意事項： 1． 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。 2． 使用時，以不同濃度并據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調制不同濃度。 儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結塊，在0℃以下因產生不可再分散結塊而失效。 包 裝：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或據客戶要求。