納米氧化鈰研磨液
產品特征：
SHNP系列納米氧化鈰拋光質量穩定，粒度可控，顆粒度分布集中，并具有以下特點：
1、 軟硬度適中、不劃傷被拋物面。
2、 懸浮性好，不易沉淀，使用方便。
3、 分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。
適用領域：
適用于DSTI-CMP、集成電路光掩模、高精密光學儀器、光學鏡頭、液晶顯示屏、多芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。
技術指標：
型號
粒度(D：50，μm)
濃度（wt％）
PH
適 用
SHNP-08
0.05-0.09
20-40
7-9
DSTI-CMP等
SHNP-2
0.1-0.2
20-40
7-9
DSTI-CMP等
SHNP-4
0.3-0.4
20-40
7-9
高精密光學儀器等
SHNP-6
0.5-0.6
20-40
7-9
高精密光學儀器等
SHNP-8
0.7-0.8
20-40
7-9
高精密光學儀器等
SHNP-10
0.9-1.0
20-40
7-9
高精密光學儀器等
SHNP-12
1.1-1.2
20-40
7-9
多芯光纖連接器等
SHNP-15
1.3-1.5
20-40
7-9
多芯光纖連接器等
備注：以上也可根據用戶需要不同濃度和不同粒度而調整。
注意事項：
1． 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。
2． 使用時，以不同濃度并據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調制不同濃度。
儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結塊，在0℃以下因產生不可再分散結塊而失效。
包 裝：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或據客戶要求。